恢復(fù)作用
這是高溫下的一種變形機(jī)制，當(dāng)溫度 T > 0.63 Tm（Tm為 熔融溫度）時，恢復(fù)作用顯得重要起來，位錯可以比較自由地擴(kuò)展并且從一個滑移面攀移到另一個滑移面。從而符號相反的兩個位錯可以通過攀移而互相湮滅（下圖）；符號相同的位錯可以重新排列成位錯壁，而將一個晶粒分隔為亞晶粒。亞晶粒之間在晶格方位上有一輕微差異，而亞晶粒內(nèi)部位錯密度降低，使變形能繼續(xù)進(jìn)行（圖）。這種現(xiàn)象稱為多邊形化作用。在顯微鏡單偏光下觀察仍為一個晶粒，在正交偏光下觀察可以看到相鄰亞晶粒間的消光位有幾度之差。
A、B 的上部表示晶內(nèi)的許多位錯通過滑移和 攀移重新排列而形成亞晶粒邊界
A、B 的下部表示塞積的位錯通過攀移而越過障礙，消除堆積的位錯
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